Die optische Degradation von synthetischem Quarzglas unter UV-Pulslaserbestrahlung kann als photolytisches Aufbrechen von Bindungen und anschließende Relaxation sowohl durch die Neuformierung dieser Bindungen als auch durch die Entstehung von neuen Bindungen interpretiert werden. Damit verbunden sind strukturelle Veränderungen im Glasnetzwerk sowie eine Änderung des Ordnungszustandes im amorphen Festkörper. Diese Änderung sollte sich auf die Form und die Lage der Absorptionskante auswirken, deren Verlauf durch die Urbach-Energie und den optischen Bandabstand charakterisiert werden kann. Aus diesem Grund sind die Urbach-Energie und der optische Bandabstand geeignete Parameter zur Charakterisierung der laserinduzierten Strukturänderungen im Material. In der vorliegenden Arbeit wird die Änderung von Urbach-Energie und optischem Bandabstand synthetischer Quarzgläser unter ArF-Pulslaserbestrahlung (193 nm) untersucht. Die dazu entwickelten, aufeinander aufbauenden Verfahren zur quantitativen Bestimmung der beiden Größen aus den Absorptionsspektren wird beschrieben. Der Verlauf von Urbach-Energie und optischem Bandabstand während der Laserbestrahlung wird durch ein einfaches kinetisches Modell dargestellt und die daraus resultierenden Modellparameter werden verglichen und diskutiert. Daran anschließend werden mögliche physikalische Ursachen für das spezifische Verhalten der beiden Größen unter ArF-Pulslaserbestrahlung diskutiert. Zusätzlich wird die laserinduzierte Änderung der Absorption im niederenergetischen Bereich der Spektren (hv < 7 eV) während der ArF-Pulslaserbestrahlung untersucht. Dazu wird der Einfluß des niederenergetischen Urbach-Flankenausläufers auf diesen Bereich der Spektren evaluiert. Nach der Separation des Urbach-Flankenausläufers wird die Absorption im niederenergetischen Bereich der Spektren anhand von Literaturbefunden zur lokalen Defektabsorption diskutiert.